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第52回 X線分析討論会

主催

日本分析化学会X線分析研究懇談会

協賛

資源・素材学会ほか

開催日

2016年10月26日(水)~2016年10月28日(金)

会場

筑波大学東京キャンパス文京校舎(〒112-0012 東京都文京区大塚3-29-1)

討論主題

  1. 新X線源による新たな分析の可能性
  2. 埋もれた薄膜界面のX線分析
  3. X線検出器技術の新展開

主要日程

講演申込期間:2016年7月1日(金)~2016年7月27日(水)

講演要旨受付期間:2016年8月1日(月)~2016年9月5日(月)

予約登録期間:2016年7月1日(金)~2016年7月31日(日)

申込方法

第52回X線分析討論会ホームページ(http://www.nims.go.jp/xray/xbun/X52/)上で申し込みを受け付けます。

その他

1)口頭・ポスター発表の区別は実行委員会にご一任ください。なお,口頭発表は1講演20分(招待講演は40分,いずれも討論時間5分を含む)です。
2)上記期間内に2ページ以上4ページ以下(招待講演者の方は6ページ以上8ページ以下)の講演要旨の電子ファイルをご提出ください。ファイル形式はWordでお願いします。講演申し込み受付時にテンプレートをお渡しします。
3)ぜひ「X線分析の進歩」(アグネ社)へのご寄稿もお願いします(原稿受付期間は8月1日(月)~10月28日(金)です)。講演申し込み受付時に投稿要領とテンプレートをお渡しします。
4)講演申し込みにより自動的に参加登録も行なわれますので,参加登録料の入金をお忘れなくお願いします。
5)参加登録をされた方は10月12日(水)から講演要旨集電子ファイルの事前ダウンロードの特典があります。
6)最新の情報は,X線分析研究懇談会ホームページ(http://www.nims.go.jp/xray/xbun/index.htm)および第52回X線分析討論会ホームページ(http://www.nims.go.jp/xray/xbun/X52/)をご覧ください。

参加費(予定)

一般予約:4,500円,一般当日:6,000円,学生:3,000円

問合せ先

国立研究開発法人物質・材料研究機構高輝度光解析グループ 桜井健次
〒305-0047茨城県つくば市千現1-2-1
FAX 029-859-2801 E-mail sakurai@yuhgiri.nims.go.jp
※学術・研究機関以外のドメインからメールを送られる方は,事前にFAXでご連絡ください。